EUV（極端紫外線） – 日刊ケミカルニュース

三井化学　EUVペリクルの商業生産開始、微細化に対応

三井化学 , ASML社 , EUV（極端紫外線） , 半導体フォトマスク防塵カバー「EUVペリクル」

2021年5月27日

　三井化学26日は、EUV（極端紫外線）に対応した次世代の半導体フォトマスク防塵カバー「EUVペリクル」について、世界に先駆け商業生産を開始したと発表した。半導体のさらなる微細化や顧客の技術革新要請に対応することで、世界市場に向け生産を行っていく考えだ。生産量は公開していない。

　同社は2019年、半導体リソグラフィー分野で世界ナンバーワンのオランダASML社から、EUVペリクル事業のライセンス契約を受け、その設計と技術に基づき同製品の生産設備を岩国大竹工場（山口県和木町）に新設した。

　データ通信を超高速化する第5世代移動通信システム（5G）の導入により、スマートフォンの一層の高機能化と半導体の高性能化が求められる中、先端デバイスに使われる半導体では、回路線幅7㎚以下の超微細化が必要なことから、それに伴い超短波長であるEUV露光技術の採用が本格的に拡大している。

　三井化学は、ICT分野を成長市場としてフォーカスし強化策に注力、モビリティ、ヘルスケア、フード&パッケージングに続く第4の成長領域の柱を目指し取り組みを加速させている。今後もICT分野関連製品群への積極投資を展開していくと見られる。

　三井化学は、露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売して以来、半導体の微細化に合わせたペリクルの改良と製品品質の向上に努めてきた。ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウがEUVペリクルの生産にも生かされており、引き続きEUV露光機の進化に合わせ、同製品の技術改良・革新をASML社と共に取り組んでいく。

住友化学　大阪でEUVレジストなど増強、先端領域を強化

住友化学 , EUV（極端紫外線） , 液浸ArF（フッ化アルゴン） , 製造ライン , 増設

2021年2月9日

　住友化学は8日、液浸ArF（フッ化アルゴン）、EUV（極端紫外線）などの最先端プロセス向け半導体フォトレジストについて、大阪工場（大阪市此花区）の製造ラインを増設し、生産能力を約4倍に引き上げると発表した。新製造ラインの稼働開始は、2022年度上期を予定する。

　フォトレジストは、半導体製造工程のパターン形成に使用される感光性樹脂。同社は、各種ファインケミカル事業で培った有機合成技術をベースに高い製品設計・評価技術を確立し、大阪工場を中心とした製造・研究・販売集約によるタイムリーな顧客対応力などを生かして事業を拡大してきた。特に、主として微細化工程で使用される液浸ArF露光用レジストについては、性能優位性と品質安定性により世界的に高いシェアを占めている。また、新たな光源であるEUV露光用レジストについても、採用が決定している有力顧客の量産化スケジュールに応じて出荷の増加を見込むとともに、着実な新規受注獲得に向けてさらなる微細化ニーズに沿った開発を進めている。

　2019年度には、先端フォトレジストプラントを新設したことに加え、開発効率向上や品質保証体制強化を目的としたクリーンルームの新棟建設と新規評価装置の導入計画を決定。これら直近3年間の投資額は100億円を超え、一連の供給体制整備の一部は経済産業省の「サプライチェーン対策のための国内投資促進事業費補助金」の対象事業に採択された。

　半導体デバイス市場は、5Gスマートフォン需要の増加に加え、在宅勤務などライフスタイルの変化に伴い、パソコンやデータセンター関連機器の需要増加を背景に伸長を続けており、液浸ArFをはじめとする先端フォトレジストの需要は、今後も年率6％の拡大が見込まれている。そのため、同社は今回、2019年度に設置した先端フォトレジストプラントに新たな製造ラインを増設し、同プラントの生産能力を約4倍に引き上げる決定をした。

　同じく2022年度上期に完成予定である開発・評価体制強化に向けた新棟建設と合わせ、次期中期経営計画（2022~24年度）の期間中に飛躍的な事業規模拡大を目指す。データ通信のさらなる高速化や大容量化などにより、半導体市場は今後も継続的な成長が見込まれている。2025年ごろには同社の生産能力はひっ迫が予想されるため、長期的な需要を見据えて一層の体制強化を検討していく考えだ。

住友化学　EUVレジストなど、開発・評価体制を大阪で強化

住友化学 , 大阪工場 , EUV（極端紫外線） , 最先端プロセス向け半導体フォトレジスト

2020年4月23日

　住友化学は22日、EUV（極端紫外線）をはじめとした最先端プロセス向け半導体フォトレジストの開発・評価体制強化のため、大阪工場に新棟を建設するとともに、新規評価装置を導入すると発表した。2022年度上期の完成を目指す。

　フォトレジストは、半導体製造工程のパターン形成に使用される感光性樹脂。同社はこれまで、高機能フォトレジスト原料の設計や量産化技術に加え、製造・研究・販売の大阪工場構内集約によるタイムリーな顧客対応力などを生かし、フォトレジスト事業を拡大してきた。旺盛な需要に応えるため、昨年度には、世界的に高いシェアを持つ液浸ArF（フッ化アルゴン）露光向けフォトレジストについて、大阪工場で新プラントを建設し生産能力の増強を行った。

　半導体市場では今後、AI技術の進化や5Gの本格商用化などを背景に先端半導体の需要伸長が期待されている。こうした領域ではEUV露光が主流になると見込まれ、そのパターン形成にはさらなる微細化に適したフォトレジストが求められている。同社は、これまで培ってきた豊富な知見と独自コンセプトに基づく材料設計によって、EUVレジストの大幅な性能の向上を実現した。需要家から高い評価を受けており、近く量産を開始する計画だ。

　今回の体制強化は、フォトレジスト事業の一層の成長を目指した中長期的な事業基盤整備の一環。クリーンルームの新棟を建設し、新たな露光機を導入することで、EUVレジストなどの開発効率を向上させ、顧客へのレスポンスを加速するとともに、品質保証体制を強化する。最先端レジスト分野での今後の事業拡大にあわせて、さらなる投資も検討していく。

　住友化学は、中期経営計画の中で「ICT」を重点分野の1つと位置づけている。今後も、フォトレジスト事業のみならず高純度ケミカルおよび化合物半導体材料事業の成長や、ディスプレイ事業とのクロスオーバー戦略を通じて、半導体材料事業全体のポートフォリオ拡充を図り、Society5.0に代表されるスマート社会やスマートモビリティの実現に欠かせない半導体産業の発展に貢献していく考えだ。