三菱電機など シリコンに注入した水素が自由電子を生成するメカニズム 世界で初めて解明 自由電子を生成するメカニズム , 特定の欠陥と結合 , 三菱電機 , Quemix , 東京科学大学総合研究院フロンティア材料研究所 , 筑波大学数理物質系 , シリコンに注入した水素 2026年1月17日 三菱電機、東京科学大学、筑波大学、Quemix(キューミックス)の4者はこのほど、 コンテンツの残りを閲覧するにはログインが必要です。 お願い Log In. あなたは会員ですか ? 会員について