岩国大竹工場に設置

　三井化学は28日、半導体のさらなる微細化、生産性向上に不可欠な次世代の高NA（開口数）、高出力EUV（極端紫外線）露光装置に対応したEUV露光用CNT（カーボンナノチューブ）ペリクルの生産設備を、岩国大竹工場に設置することを決定したと発表した。　

　採用が拡大しているEUV露光の次世代技術として、