旭化成と名古屋大学未来材料・システム研究所(須田淳教授、天野浩教授)の研究グループはこのほど、次世代半導体材料として期待される窒化アルミニウム(AlN)系材料において、理想的な特性を示すpn接合を作製することに世界で初めて成功したと発表した。

pn接合は
2023年12月18日
2023年12月15日
2023年12月12日
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