三井化学は31日、半導体リソグラフィー（露光）分野で世界ナンバーワンのオランダASML社と、EUV（極端紫外線）ペリクル事業のライセンス契約を締結したと発表した。
ASML社からEUVペリクルに関するライセンスを受けることで、EUVペリクルの生産権と生産販売権を取得する。新設備を岩国大竹工場内に今月に着工し、2020年6月の完工、その後、顧客の承認などを経て、2021年第2四半期までの営業運転開始を目指す。
これにより、世界に先駆けてEUVペリクルを商業化する。また、両社は世界市場で、EUVペリクルを通じた事業拡大と次世代製品の開発を進める。
三井化学は半導体の製造で必須となる露光工程の防塵カバーのペリクルを、1984年に発売して以来、半導体の微細化に合わせたペリクルの改良と、製品品質の向上に努めてきた。
現在、第5世代移動通信システム（5G）に代表されるデータの超高速化、高機能化のニーズが高まっており、さらなる半導体の微細化が求められているが、そのためには、従来の露光工程とは全く異なる技術導入が必要となる。それを実現するのがEUV露光機と、その防塵カバーのEUVペリクルである。
ASML社は半導体の露光機メーカーでは世界最大手で、EUV露光機とEUVペリクルを開発した唯一のメーカー。三井化学ケミカルが高品質のEUVペリクルを市場に供給することで、EUV露光技術の普及にも貢献し、急速な拡大が期待される今後の半導体需要に対応する。
同社グループは、EUVペリクルをはじめ、ICT関連事業の拡大と、新たな高機能分野への技術革新の推進を目指すとともに、多様化するニーズに対応したソリューションの提供と、個々の事業の競争力を通じて、グローバル市場で持続的な成長を実現していく。