日本ゼオンはこのほど、基盤技術研究所に所属する本田隆研究員が、高分子学会から2021年度フェローの称号を授与されたと発表した。平均場法を中心とした計算手法の開発と高分子化学への貢献が評価された。なお同社の現職の研究員が高分子学会フェローの称号を授与されたのは、今回が初となる。
高分子学会は、会員数1万を超える学術団体。高分子に関する科学および技術の基礎的研究、その実際的応用の進歩、学術文化の発展並びにそれらを担う人材の育成を図ることを目的として設立された。会員企業である同社は、高分子学会が発行する「Polymer Journal」において、優れた論文を発表した若手研究者を対象に「Polymer Journal 論文賞‐日本ゼオン賞」を創設するなど、研究奨励にも力を入れて取り組んでいる。同学会フェローは2007年に創設され、高分子科学・技術の発展に業績を挙げ、今後も貢献が期待できる高分子学会正会員に対し贈られる。
本田研究員は、同社に所属しながら国家プロジェクトに参画し、高分子系のシミュレーション手法の1つである平均場法（高分子の密度汎関数理論）におけるSCF（セルフコンシステント フィールド）法のプログラム・SUSHI（Simulation Utilities for Soft and Hard Interfaces）を開発し、多くの研究成果を挙げた。また、各成果はソフトウェア機能として容易に使える形で公開されており、SUSHIおよび平均場法は国内外の研究機関や企業の研究者によって現在も広く使われている。
また昨今では、機械学習などのデータサイエンスとシミュレーションの融合分野でも実績を残すなど、計算機を使った先駆的な研究を継続していることからその功績が認められた。