三菱電機など シリコンに注入した水素が自由電子を生成するメカニズム 世界で初めて解明 シリコンに注入した水素 , 自由電子を生成するメカニズム , 特定の欠陥と結合 , 三菱電機 , Quemix , 東京科学大学総合研究院フロンティア材料研究所 , 筑波大学数理物質系 2026年1月17日 三菱電機、東京科学大学、筑波大学、Quemix(キューミックス)の4者はこのほど、 コンテンツの残りを閲覧するにはログインが必要です。 お願い Log In. あなたは会員ですか ? 会員について 関連記事 旭化成 最先端半導体パッケージ用 新規感光性ドライフィルム「サンフォート」を開発 三菱電機 宇宙用太陽電池関連部品の開発、宇宙戦略基金事業の代表機関に選定 三菱電機 量子科学技術研究開発機構と世界最大プラズマを安定に維持する高速プラズマ位置制御コイルを完成 ENEOS Powerなど 東村山市秋水園での太陽光発電による電力供給を開始