東レは27日、AI半導体に用いられる次世代高帯域幅メモリ（HBM）、SSDなどに用いられるNAND型フラッシュメモリ、xEVや産業機器に用いられるパワー半導体など、
東レ 半導体ウェハの薄膜化に対応した新規仮貼り材料を開発
2025年11月28日
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