旭化成と名古屋大学未来材料・システム研究所（須田淳教授、天野浩教授）の研究グループはこのほど、次世代半導体材料として期待される窒化アルミニウム（AlN）系材料において、理想的な特性を示すpn接合を作製することに世界で初めて成功したと発表した。
pn接合は
旭化成 AIN系UWBG、pn接合で理想的特性を実現
2023年12月18日
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